SETO 1.67 lentille photochromique shmc

1) Qu'est-ce que le revêtement de spin?

Le revêtement de spin est une procédure utilisée pour déposer des films minces uniformes sur des substrats plats. Habituellement, une petite quantité de matériel de revêtement est appliquée sur le centre du substrat, qui tourne à basse vitesse ou pas du tout. Le substrat est ensuite tourné à une vitesse allant jusqu'à 10 000 tr / min pour étaler le matériau de revêtement par force centrifuge. Une machine utilisée pour le revêtement de spin est appelée coiffure de spin, ou simplement fileur.
La rotation se poursuit tandis que le fluide tourne sur les bords du substrat, jusqu'à ce que l'épaisseur souhaitée du film soit obtenue. Le solvant appliqué est généralement volatile et s'évapore simultanément. Plus la vitesse angulaire de la rotation est élevée, plus le film est mince. L'épaisseur du film dépend également de la viscosité et de la concentration de la solution et du solvant. Une analyse théorique pionnière du revêtement de spin a été entreprise par Emslie et al., Et a été étendue par de nombreux auteurs ultérieurs (y compris Wilson et al., Qui ont étudié le taux de propagation dans le revêtement de spin; et Danglad-Flores et al., Qui ont trouvé un Description universelle pour prédire l'épaisseur du film déposée).
Le revêtement de spin est largement utilisé en microfabrication des couches d'oxyde fonctionnel sur des substrats en verre ou en monocristal à l'aide de précurseurs sol-gel, où il peut être utilisé pour créer des films minces uniformes avec des épaisseurs à l'échelle nanométrique. [6] Il est utilisé de manière intensive dans la photolithographie, pour déposer des couches de photorésistance d'environ 1 micromètre d'épaisseur. La photorésistaire est généralement filée à 20 à 80 révolutions par seconde pendant 30 à 60 secondes. Il est également largement utilisé pour la fabrication de structures photoniques planes en polymères.
Un avantage pour faire tourner les films minces est l'uniformité de l'épaisseur du film. En raison de l'auto-niveau, les épaisseurs ne varient pas plus de 1%. Cependant, les films plus épais de polymères et de photorésistaires peuvent entraîner des billes de bord relativement importantes dont la planarisation a des limites physiques.