Objectif photochromique SETO 1.67 SHMC

1) Qu’est-ce que le revêtement par rotation ?

Le revêtement par rotation est une procédure utilisée pour déposer des films minces uniformes sur des substrats plats.Habituellement, une petite quantité de matériau de revêtement est appliquée au centre du substrat, qui tourne à faible vitesse ou ne tourne pas du tout.Le substrat est ensuite mis en rotation à une vitesse allant jusqu'à 10 000 tr/min pour étaler le matériau de revêtement par force centrifuge.Une machine utilisée pour le revêtement par centrifugation est appelée une coucheuse par centrifugation, ou simplement une centrifugeuse.
La rotation se poursuit pendant que le fluide s'écoule des bords du substrat, jusqu'à ce que l'épaisseur souhaitée du film soit atteinte.Le solvant appliqué est généralement volatil et s'évapore simultanément.Plus la vitesse angulaire de rotation est élevée, plus le film est fin.L'épaisseur du film dépend également de la viscosité et de la concentration de la solution ainsi que du solvant.Une analyse théorique pionnière du revêtement par centrifugation a été entreprise par Emslie et al., et a été étendue par de nombreux auteurs ultérieurs (dont Wilson et al., qui ont étudié le taux d'étalement dans le revêtement par centrifugation ; et Danglad-Flores et al., qui ont trouvé un description universelle pour prédire l'épaisseur du film déposé).
Le revêtement par rotation est largement utilisé dans la microfabrication de couches d'oxyde fonctionnelles sur des substrats de verre ou monocristallins à l'aide de précurseurs sol-gel, où il peut être utilisé pour créer des films minces uniformes avec des épaisseurs nanométriques.[6]Il est utilisé de manière intensive en photolithographie, pour déposer des couches de photorésiste d'environ 1 micromètre d'épaisseur.La résine photosensible est généralement filée à une vitesse de 20 à 80 tours par seconde pendant 30 à 60 secondes.Il est également largement utilisé pour la fabrication de structures photoniques planaires constituées de polymères.
L’un des avantages du revêtement par centrifugation de films minces est l’uniformité de l’épaisseur du film.Grâce à l'autonivellement, les épaisseurs ne varient pas de plus de 1 %.Cependant, le revêtement par centrifugation de films plus épais de polymères et de photorésists peut donner lieu à des perles de bord relativement grandes dont la planarisation présente des limites physiques.